優(yōu)勢：

1、微光斑功能： 標準配置微光斑 光斑尺寸80x120微米。特殊光學設計與研磨級高精度Z軸搭配可自動移除透明襯底背面反射.對焦過程中可自動判定膜層的對焦位置，并通過光學狹縫克服透明襯底背后反射

2、采用訊號自動對焦，量測訊號與對焦訊號為同一訊號 有效避免量測的位置誤差。

3、檢偏器自動追蹤：大幅提升橢偏儀量測精度,特別有利于極薄膜層的材料分析以及ψ與Δ之精度

4、電動自動可調(diào)變衰減片：可自動或手動調(diào)整不同樣品訊號飽和程度(100%~0.1%)，并可分段設置UV訊號與可見光訊號強度以便獲取最佳量測訊號

5、軟件自動分析擬合：提供膜厚 折射率預分析功能，未知材料的數(shù)據(jù)庫比對能力,軟件自動分析簡化操作,克服橢偏儀一向由專業(yè)人士操作帶來的量測困難。

6、遠程遙控：突破橢偏儀需到場服務與培訓之限制,大幅提升售后服務之效率

7、高質(zhì)量DUV光譜儀： 光譜范圍220nm-1100nm,（可選配至1700nm)分辨率<1nm 自帶半導體制冷,高動態(tài)比，訊噪比盡可能的減小噪聲影響

8、自動生成2D或3D Mapping 圖譜并自動數(shù)據(jù)分析，光譜自動保存，數(shù)據(jù)可匯總及上傳

9、以recipe設置 測試時間大幅縮短至1-3秒，提高測試效率。

10、設計上 采用抗紫外鈍化光纖雙光纖結構，先進的斷開功能,大幅提升光譜穩(wěn)定性和長期使用的可靠性。

11、高穩(wěn)定性 標準片 膜厚重復性精度<0.5A,折射率重復精度<0.0005

12、膜厚測試范圍1nm-20微米 可針對透明或不透明襯底測試

13、免費建模

規(guī)格：

光學原理：

光波從接觸到光學組件表面，到離開光學組件表面的短暫時間里，其偏極狀態(tài)（polarization state)一定會改變。橢圓偏光儀，既是一種用來量測光波穿透光學組件，或從光學組件表面反射前后偏極狀態(tài)改變情形的儀器。由于此種偏極狀態(tài)的改變是光波與光學組件材料產(chǎn)生交互作用的結果，因此可由偏極狀態(tài)的改變情形，反推得到光學組件表面的物理特性。這里所謂的光學組件表面有可能是光學組件的表面，也有可能是單層膜或多層膜的堆棧，也可能是光學組件表面的污染層。
光藉由非零度入射角至樣品表面而反射, 因為樣品的厚度及對光的反應（吸收或透明…）而產(chǎn)生極化狀態(tài)的改變（產(chǎn)生相位及振幅的改變），此量測方式我們稱為橢圓儀量測。量測時對于每個波長,我們得到兩個獨立的參數(shù)Ψ and △